듀폰사, 한국에 반도체 핵심소재 EUV 포토레지스트 공장설립

존 켐프 듀폰 전자·이미징사업부 사장(오른쪽)이 8일(현지시간) 미국 샌프란시스코 포시즌스호텔에서 성윤모 산업통상자원부 장관(가운데)이 참석한 가운데 장상현 KOTRA 인베스트코리아 대표에게 극자외선(EUV)용 포토레지스트 생산시설 투자신고서를 건네고 있다. 산업통상자원부 제공

일본 3개 수출 규제품목 중 하나로 차세대 반도체 핵심소재
천안 공장에 2800만 달러 규모 투자
일본 12월 포토레지스트 규제 풀었지만 공급선 다변화 빨라질듯

존 켐프 듀폰 전자·이미징사업부 사장(오른쪽)이 8일(현지시간) 미국 샌프란시스코 포시즌스호텔에서 성윤모 산업통상자원부 장관(가운데)이 참석한 가운데 장상현 KOTRA 인베스트코리아 대표에게 극자외선(EUV)용 포토레지스트 생산시설 투자신고서를 건네고 있다. 산업통상자원부 제공

글로벌 화학소재기업인 듀폰사가 한국에 이유브이(EUV, 극자외선)용 포토레지스트(감광액) 생산공장을 만든다. 이유브이용 포토레지스트는 지난해 7월 일본이 한국에 수출규제조치를 했던 반도체 핵심소재 3개 품목 중 하나다.

산업통상자원부는 8일(현지시각) 미국 실리콘밸리에서 듀폰사의 존 켐프 사장과 성윤모 장관이 만나 “이유브이용 포토레지스트 개발 및 생산시설 구축을 위해 한국에 투자하기로 확정하고 코트라에 투자신고서를 제출했다”고 9일 밝혔다. 투자신고서에 명시한 투자금액은 2800만 달러다. 듀폰사는 한국내 자회사인 롬엔드하스전자재료코리아를 통해 1998년부터 반도체 회로기판용 소재·부품을 생산해온 천안공장에 이유브이용 포토레지스트 생산라인을 세우기로 했다. 포토레지스트는 반도체 실리콘 웨이퍼 위에 펴 바른 후, 빛을 받은 부분에 화학 변화를 일으켜 회로를 그리는 작업에 쓰이는 소재다. 특히 이유브이용 포토레지스트를 쓰는 이유브이 공정은 차세대 핵심기술로 꼽힌다.

지금까지 포토레지스트는 90% 이상 일본산 수입에 의존했지만 이번 듀폰사의 한국 투자 유치를 계기로 미국과 유럽 등 공급선 다변화 움직임이 빨라질 것으로 보인다. 일본은 지난 12월 규제 3대 품목 중 포토레지스트만 개별허가에서 특정포괄허가로 완화했다. 한국이 해당 제품의 수입선을 바꾸면 자국 기업에 타격이 될 것을 우려한 조치로 해석된다.

켐프 사장은 투자신고서를 제출하는 자리에서 “이유브이용 포토레지스트 개발·생산을 위해 앞으로 한국 내 주요 수요 업체와 제품 실증테스트를 진행하는 등 긴밀히 협력해 나갈 계획”이라고 밝혔다. 성 장관은 “최근 일본 정부가 이유브이용 포토레지스트에 대한 특정포괄허가를 허용하는 등 일본 수출규제 조치를 해결하는 데 일부 진전이 있었지만 근본적인 해결방안으로 보기는 어렵다”며 “정부는 핵심 소재·부품·장비에 대한 기술경쟁력 확보와 공급선 다변화를 계속해서 추진해 나갈 것”이라고 강조했다.

한편 성 장관은 9일(현지시각) 실리콘밸리에서 한국 투자에 관심을 가지고 있는 미국 투자가들을 대상으로 한 라운드테이블을 주재했다. 반도체, 자동차, 수소경제,재생에너지, 정보기술(IT), 벤처캐피탈 분야의 기업 10개사를 초청해 한국 정부의 수소경제 활성화 로드맵, 핵심 소재·부품·장비 경쟁력 강화 대책 등에 대한 설명을 하고 한국 투자유치를 위한 지원정책 등을 홍보했다.

김은형 기자 [e-mail]